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差别的激起频次plasma的有不一样的机能：
传统的plasma物理洗濯有N2和AR洁净。AR本身是罕见气体，等离子体的ar不与外表产生反映，而是靠离子跃迁使外表洁净。典范的等离子体化学洗濯工序是O2等离子体洗濯。按照等离子体产生的氧自在基很活跃，易于与碳氢化合物产生反映，产生CO2、CO和H2O等易挥发性，进而去除外表的净化物。
plasma态的密度和激起频次有如下干系：
nc=1.2425×108v2
此中nc为等离子态密度（cm-3），v为激起频次（Hz）。
经常利用的plasma激起频次有三种：激起频次为40kHz的等离子体为超声等离子体，13.56MHz的等离子体为射频等离子体，2.45GHz的plasma为微波等离子体。
差别plasma自偏压差别。超声等离子体的自偏压为1万V射频等离子体的自偏压约为250V微波等离子体的自偏压很低，只要几十伏，三种等离子体的机制也差别。超声等离子体的反映是物理反映，射频等离子体的反映是物理反映和化学反映，微波等离子体的反映是化学反映。超声等离子体洗濯对洗濯外表有很大影响，是以射频等离子体洗濯和微波等离子体洗濯首要用于半导体的现实出产和利用。
