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CRF-WBO-RO1200

0-1250W功率可调固态微波源,脉冲、持续波体例可调，频次2.45GHz±25Hz，轮回水冷下降温度。

●环形器+带耦合器的水负载，接收反射微波，大大耽误微波源操纵寿命。

●三销钉调谐器可调节负载阻抗，进步微波操纵率，下降反射波毁伤。

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装备具体数据

称号	参数
装备供电	三相380V/AC，50/60Hz，7.2KW
等离子微波源	2.45GHz，0-1250W
负载冷却体例	轮回水冷
真空泵	双级旋叶泵+罗茨泵
装备节制体例	PLC+PC
真空探测	皮拉尼式真空规
工艺气体	2路气体可选（CF4,SF6,O2,Cl2,BCI2等）
气体流量	MFC/0-500sccm，两路气体可选
腔体容积	110L
处置效力	同时可安排8个支架类料盒
触摸屏	13.3寸一体机
形状尺寸	1400mm770mm1660mm

等离子洗濯是半导体后道工艺中最罕见的装备之一。澳门新濠官方网址3559 在微波源的激起下产生氧等离子体，这类激起的氧等离子能够有用的去除半导体芯片在加工进程中在芯片外表残留的无机净化物，这类净化物会严峻影响器件在键合封装中的良率。在集成电路的建造程中，会产生很多品种的净化物，包含氟化树脂、氧化物、环氧树脂、焊料、光刻蚀剂等，这些净化物将严峻影响集成电路及其元器件的靠得住性和及格率。等离子洗濯作为一种能有用去除外表净化物的工艺手艺被遍及利用于集成电路的制程中。
微波等离子洗濯作为一种绿色无净化的高紧密干法洗濯体例，能够有用去除外表净化物，防止静电毁伤。简述了微波等离子洗濯的道理及特色，先容了装备的组成、洗濯工艺和形式，对微波导入和微波源与负载的婚配两个关头手艺停止了研讨；经由过程工艺考证，微波等离子洗濯下降了打仗角度，进步了引线键合强度。